产品描述
产品描述:
在248nm和193nm的显微成像技术中，照明和投影光学都需要高纯度的氟化钙单晶。Hellma Materials的专业技术和Raytek光学技术允许制造直径高达440mm、厚度超过100mm、最高透射率达157nm的CaF2坯料. CaF2的高激光耐久性使其成为准分子激光光学、光束传输以及其他需要广泛应用准分子波长领域的首选材料. 合成的氟化钙晶体完成了光学材料从真空紫外到红外的应用范围，具有从130nm到9nm的很好的透过率µm。在天文摄影、高清晰度电视变焦镜头以及显微镜的彩色校正光学系统中，氟化钙可以实现光学性能的优势，进一步的应用是传感器（特别是红外光谱）、光谱仪和医疗激光器. Hellma材料和Raytek光学公司提供具有不同晶体和不同表面质量的CaF2组件和坯料。CaF2是VUV/DUV/UV、VIS和IR应用的理想选择。
产品名称：氟化钙单晶/Hellma CaF2单晶/Hellma氟化钙
产品关键词：
氟化钙单晶、氟化钙、Hellma CaF2，Hellma氟化钙、氟化钙红外材料、CaF2红外材料、CaF2、Hellma CaF2、Hellma CaF2、CaF2晶体、CaF2晶体、UV CaF2、CaF2 UV材料等。
光学属性，热力学属性，以及机械属性和化学属性：
见图中所示英文表或下载相关技术资料
主要应用：
1).准分子激光和光束传输系统
2).激光和成像光学
3).飞秒高功率激光器
4).低色散真空窗口
我们提供：
德国HELLMA氟化钙单晶毛坯件大料
德国HELLMA氟化钙单晶粗加工坯件
德国HELLMA氟化钙单晶坯件的进一步加工服务，包括切割，成型，抛光，研磨，钻孔，取芯，倒边，倒角，3D巡边，激光雕刻与打标，单面抛光，双面抛光，环抛，离子束抛光加工，磁流变抛光加工，轻量化，沉孔，数控机加工，开槽，真空镀膜，蒸发镀膜，清洗，计量与测量，胶合，光学装配等。
现货坯件最大尺寸：440mm(D)*60mm(H)
最大坯件加工尺寸：2000mm(L)*2000mm(W)*600mm(H)
材料等级：光学级
主要优势：
1）。广泛应用于248nm和193nm的显微成像技术，照明和投影光学中
2）。高纯度的氟化钙单晶，允许制造直径高达440mm、厚度超过100mm的坯料；
3）。高激光耐久性使其成为准分子激光光学、光束传输以及其他需要广泛应用准分子波长领域的首选材料。
4）。完成从真空紫外到红外的光学材料的应用范围，具有从130nm到9nm的很好的透过率。
